M10D 215,072 MHz Zadzwoń do studia 41 200 20 20 
Duet projektantów RAD z Poznania otrzymał tytuł „Najlepszego Projektanta Offowego 2019”. W Kieleckim Centrum Kultury odbyła się gala 21. Konkursu Off Fashion. II miejsce zajął Adrian Krupa z Łodzi, III miejsce – Marlena Czak z Poznania. Wszyscy laureaci zdobywali nagrody w poprzednich edycjach konkursu.
Maciej Jóźwicki i Juliusz Rusin z duetu RAD są w Kielcach po raz trzeci, dwukrotnie zajmując III miejsce. W tym roku zdecydowanie wygrali.
-Prowadzimy w Poznaniu swoją firmę, a na Off Fashion przygotowujemy bardziej awangardowe stroje – podkreślają projektanci.
Adrian Krupa, podobnie jak w ubiegłym roku, wywalczył II miejsce. Otrzymał też nagrodę publiczności. W tym roku kończy studia na Akademii Sztuk Pięknych, a przywieziona do Kielc kolekcja jest fragmentem jego pracy magisterskiej.
Jurorzy zgodnie podkreślali wysoki poziom tegorocznych prac. Ewa Bardadin, mieszkająca w Rzymie krytyk mody, przyznaje, że miała ogromny problem, na kogo zagłosować.
– Wszystkie kolekcje były bardzo dobre, a konkurs Off Fashion jest cudowny – mówi dziennikarka.
Do niebezpiecznego zdarzenia doszło na scenie podczas głosowania jurorów. Jedna z modelek zasłabła i upadła. Natychmiast zareagowały służby ratunkowe; upadek okazał się niegroźny.
Wybrane jesienią ubiegłego roku nowe władze Kielc zapowiedziały kontynuację konkursu.
