Katarzyna Skórzyńska z Warszawy zwyciężczynią 14. Międzynarodowego Konkursu dla Projektantów i Entuzjastów Mody Off Fashion.
Najlepsza projektantka offowa ostatniego sezonu jest studentką Katedry Mody warszawskiej Akademii Sztuk Pięknych.
Na konkurs do Kielc przyjechała po raz pierwszy, prezentując fragment swojej pracy dyplomowej, której będzie bronić w przyszłym roku. Jej kolekcja inspirowana jest Chinami, a praca nad nią trwała 3 miesiące.
II miejsce w konkursie zajął duet Agnieszka Gajos i Paulina Matuszelańska, a III – Aneta Zielińska. Wręczono również rekordową liczbę wyróżnień – 14. Ufundowały je firmy związane z modą i przemysłem odzieżowym.
Zdaniem prof. Barbary Hanuszkiewicz z Akademii Sztuk Pięknych w Łodzi, poziom tegorocznego finału był bardzo wysoki i wyrównany, mimo, że kolekcje były różnorodne.
Włoska jurorka konkursu Bianca Cimiotta) Lami zwraca uwagę, że kielecki konkurs Off Fashion jest profesjonalnie przygotowany, a poziom zgłaszanych kolekcji jest bardzo wysoki. To wyróżnia Off Fashion spośród konkursów dla młodych projektantów – dodaje szefowa działu Promocji w rzymskiej Akademii Mody Koefia.
Dyrekcja kieleckiego Centrum Kultury przyznała również kolejne statuetki „Przyjaciel Off Fashion”. Otrzymali je: Adam Smuga, prowadzący w tym roku pokaz pokonkursowy w Brukseli oraz Grzegorz Czekaj – dyrektor Galerii Echo, gdzie od kilku lat odbywają się pokazy towarzyszące konkursowi.
zobacz galerie zdjęć:
Gala finałowa XIV Off Fashion w KCK (część 1)
Gala finałowa XIV Off Fashion w KCK (część 2)